公布日：2023.05.30
申請(qǐng)日：2023.02.23
分類號(hào)：C02F9/00(2023.01)I;C02F1/00(2023.01)N;C02F1/463(2023.01)N;C02F1/52(2023.01)N;C02F1/66(2023.01)N;C02F1/70(2023.01)N;C02F1/78(2023.01)N;C02F101
/22(2006.01)N;C02F101/20(2006.01)N
摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，包括除鉻反應(yīng)罐、破氰反應(yīng)罐、沉淀池，所述沉淀池通過(guò)管路與常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對(duì)廢水進(jìn)行后續(xù)的常規(guī)污染物達(dá)標(biāo)處理，所述排放管靠近除鉻反應(yīng)罐的一端設(shè)置有過(guò)濾裝置，以用于對(duì)電子工業(yè)廢水中的沉淀物進(jìn)行過(guò)濾，本發(fā)明具備過(guò)濾電子工業(yè)廢水中的沉淀物的能力并且能夠隨時(shí)拆卸清洗，在工業(yè)廢水重金屬去除處理后，將廢水通入常規(guī)污水處理系統(tǒng)進(jìn)行常規(guī)污染物達(dá)標(biāo)處理，防止未達(dá)標(biāo)的尾水排放污染環(huán)境。
權(quán)利要求書(shū)
1.一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，包括：除鉻反應(yīng)罐，所述除鉻反應(yīng)罐與電子工業(yè)廢水的排放管連通，以用于將含鉻廢水中的鉻離子還原去除；破氰反應(yīng)罐，所述破氰反應(yīng)罐與除鉻反應(yīng)罐連通，以用于將廢水中氰化物進(jìn)行去除；沉淀池，以用于對(duì)廢水進(jìn)行沉淀處理；所述除鉻反應(yīng)罐設(shè)置有廢氣回收裝置，防止除鉻反應(yīng)生成的廢氣對(duì)環(huán)境造成二次污染，所述破氰反應(yīng)罐還連通有臭氧發(fā)生裝置，利用臭氧對(duì)氰化物進(jìn)行進(jìn)一步氧化去除，所述沉淀池通過(guò)管路與常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對(duì)廢水進(jìn)行后續(xù)的常規(guī)污染物達(dá)標(biāo)處理，所述排放管靠近除鉻反應(yīng)罐的一端設(shè)置有過(guò)濾裝置，以用于對(duì)電子工業(yè)廢水中的沉淀物進(jìn)行過(guò)濾。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述除鉻反應(yīng)罐還包括攪拌裝置、罐體加熱裝置、加藥裝置以及新風(fēng)系統(tǒng)，所述新風(fēng)系統(tǒng)包括新風(fēng)風(fēng)機(jī)以及新風(fēng)風(fēng)機(jī)與除鉻反應(yīng)罐連通的風(fēng)道，所述風(fēng)道上設(shè)置有單向閥體裝置，以用于防止除鉻反應(yīng)罐內(nèi)的有害氣體從新風(fēng)系統(tǒng)排出。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述過(guò)濾裝置包括通過(guò)緊固件固定連接在排放管上的錐形管路接頭一、錐形管路接頭二，設(shè)置在錐形管路接頭一和錐形管路接頭二之間的柱狀過(guò)濾網(wǎng)結(jié)構(gòu)以及與錐形管路接頭一滑動(dòng)連接的套管，所述排放管在過(guò)濾裝置對(duì)應(yīng)安裝處設(shè)置有承接環(huán)，以用于安裝錐形管路接頭一和錐形管路接頭二，所述錐形管路接頭一和錐形管路接頭二均由安裝環(huán)和錐形管組成，兩個(gè)所述錐形管相對(duì)設(shè)置，所述柱狀過(guò)濾網(wǎng)結(jié)構(gòu)包括筒型過(guò)濾網(wǎng)、設(shè)置在筒型過(guò)濾網(wǎng)兩端的過(guò)濾承接口以及若干沿筒形過(guò)濾網(wǎng)軸線方向平行且均勻分布的圓形過(guò)濾網(wǎng)，圓形過(guò)濾網(wǎng)與筒型過(guò)濾網(wǎng)固定連接，所述過(guò)濾承接口的豎直界面面積均與錐形管路接頭一和錐形管路接頭二的錐形管端面的面積相等，所述錐形管路接頭一和錐形管路接頭二的相對(duì)開(kāi)口處均固設(shè)有與柱狀濾網(wǎng)兩端匹配的弧形彈性卡，以用于將柱狀濾網(wǎng)結(jié)構(gòu)卡接在錐形管路接頭一和錐形管路接頭二上，所述過(guò)濾承接口的卡接處設(shè)置有與弧形彈性卡相匹配的環(huán)形凸起，所述錐形管路接頭一的安裝環(huán)外徑大于承接環(huán)的外徑且沿安裝環(huán)外圈內(nèi)側(cè)開(kāi)設(shè)有若干滑槽，以用于與套管滑動(dòng)連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述套管靠近錐形管路接頭一的一端管壁端面上固設(shè)有密封環(huán)，密封環(huán)靠近承接環(huán)一側(cè)嵌入有密封圈，以用于與承接環(huán)配合防止廢水外泄，套管內(nèi)壁上對(duì)應(yīng)若干滑槽的位置固設(shè)有與滑槽匹配且數(shù)量對(duì)應(yīng)的滑軌，所述滑軌均平行于套管軸線方向，所述套管遠(yuǎn)離密封環(huán)的一端設(shè)置有鎖緊機(jī)構(gòu)，所述鎖緊機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)動(dòng)連接在套管上的鎖緊桿、套舍在鎖緊桿上的壓縮彈簧、固設(shè)在鎖緊桿頭的限位凸起以及開(kāi)設(shè)在排放管壁上與限位凸起匹配的限位凹槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述滑軌靠近鎖緊機(jī)構(gòu)一端設(shè)置有限位環(huán)，以用于限定套管在安裝環(huán)上滑動(dòng)的位置，所述套管上對(duì)應(yīng)鎖緊桿的位置設(shè)置開(kāi)設(shè)有凸起容納槽，所述壓縮彈簧一端緊抵凸起容納槽頂壁。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述沉淀池一側(cè)設(shè)置有中轉(zhuǎn)池，以用于將破氰處理后的廢水暫存在中轉(zhuǎn)池中，所述中轉(zhuǎn)池與沉淀池通過(guò)S型管路連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述中轉(zhuǎn)池側(cè)壁上固設(shè)有電極固定架，電極固定架架上固設(shè)有若干鐵金屬電極板，若干所述鐵金屬電極板沿豎直方向平均分布且相互平行，鐵金屬電極板通過(guò)導(dǎo)線與外部電源電連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7所述的一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)處理廢水的步驟如下：步驟S1，將廢水通過(guò)過(guò)濾網(wǎng)，過(guò)濾去除廢水中的沉淀物；步驟S2，將步驟S1中過(guò)濾后的廢水排入除鉻反應(yīng)罐中，通過(guò)加藥裝置加入鐵鹽，罐體內(nèi)溫度在65℃～75℃，并與空氣充分?jǐn)嚢瑁o止浴溫30min，得到上清液；步驟S3，將步驟S2中得到的上清液排入破氰反應(yīng)罐中，通過(guò)臭氧發(fā)生裝置生成的臭氧在破氰反應(yīng)罐中進(jìn)行曝氣處理，得到預(yù)處理的廢水；步驟S4，將步驟S3中得到的廢水在中轉(zhuǎn)池中流經(jīng)鐵金屬電極板，外部電源打開(kāi)，鐵金屬電極板通電，對(duì)中轉(zhuǎn)池中的廢水進(jìn)行電絮凝處理；步驟S5，將步驟S4中電絮凝處理后的廢水排入沉淀池中，調(diào)節(jié)PH值至6.2～6.7，加入硫化鈉，靜置1.5h；步驟S6，將步驟S5中沉淀池內(nèi)沉淀處理后的廢水排入常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對(duì)廢水進(jìn)行后續(xù)的常規(guī)污染物達(dá)標(biāo)處理。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述除鉻反應(yīng)罐底部連通有鉻金屬回收裝置，以用于對(duì)去除的含鉻沉淀物進(jìn)行回收。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述的沉淀池底部通過(guò)管路連通有沉淀回收裝置，以用于對(duì)沉淀池中的沉淀物進(jìn)行集中收集和處置。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，具備過(guò)濾電子工業(yè)廢水中的沉淀物的能力并且能夠隨時(shí)拆卸清洗，在工業(yè)廢水重金屬去除處理后，將廢水通入常規(guī)污水處理系統(tǒng)進(jìn)行常規(guī)污染物達(dá)標(biāo)處理，防止未達(dá)標(biāo)的尾水排放污染環(huán)境，解決了現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明是采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：
一種生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)，包括：
除鉻反應(yīng)罐，所述除鉻反應(yīng)罐與電子工業(yè)廢水的排放管連通，以用于將含鉻廢水中的鉻離子還原去除；
破氰反應(yīng)罐，所述破氰反應(yīng)罐與除鉻反應(yīng)罐連通，以用于將廢水中氰化物進(jìn)行去除；
沉淀池，以用于對(duì)廢水進(jìn)行沉淀處理；
所述除鉻反應(yīng)罐設(shè)置有廢氣回收裝置，防止除鉻反應(yīng)生成的廢氣對(duì)環(huán)境造成二次污染，所述破氰反應(yīng)罐還連通有臭氧發(fā)生裝置，利用臭氧對(duì)氰化物進(jìn)行進(jìn)一步氧化去除，所述沉淀池通過(guò)管路與常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對(duì)廢水進(jìn)行后續(xù)的常規(guī)污染物達(dá)標(biāo)處理，所述排放管靠近除鉻反應(yīng)罐的一端設(shè)置有過(guò)濾裝置，以用于對(duì)電子工業(yè)廢水中的沉淀物進(jìn)行過(guò)濾。
本發(fā)明的有益效果如下：本發(fā)明通過(guò)在電子工業(yè)廢水排放管上設(shè)置過(guò)濾裝置，首先對(duì)待處理的工業(yè)電子工業(yè)廢水中的沉淀物進(jìn)行過(guò)濾，然后再進(jìn)行除鉻、破氰的重金屬污染物的處理，最后將處理后的工業(yè)廢水引入常規(guī)水處理系統(tǒng)進(jìn)行后續(xù)的常規(guī)污染物達(dá)標(biāo)處理。
進(jìn)一步地，所述除鉻反應(yīng)罐還包括攪拌裝置、罐體加熱裝置、加藥裝置以及新風(fēng)系統(tǒng)，所述新風(fēng)系統(tǒng)包括新風(fēng)風(fēng)機(jī)以及新風(fēng)風(fēng)機(jī)與除鉻反應(yīng)罐連通的風(fēng)道，所述風(fēng)道上設(shè)置有單向閥體裝置，以用于防止除鉻反應(yīng)罐內(nèi)的有害氣體從新風(fēng)系統(tǒng)排出。
進(jìn)一步地，所述過(guò)濾裝置包括通過(guò)緊固件固定連接在排放管上的錐形管路接頭一、錐形管路接頭二，設(shè)置在錐形管路接頭一和錐形管路接頭二之間的柱狀過(guò)濾網(wǎng)結(jié)構(gòu)以及與錐形管路接頭一滑動(dòng)連接的套管，所述排放管在過(guò)濾裝置對(duì)應(yīng)安裝處設(shè)置有承接環(huán)，以用于安裝錐形管路接頭一和錐形管路接頭二，所述錐形管路接頭一和錐形管路接頭二均由安裝環(huán)和錐形管組成，兩個(gè)所述錐形管相對(duì)設(shè)置，所述柱狀過(guò)濾網(wǎng)結(jié)構(gòu)包括筒型過(guò)濾網(wǎng)、設(shè)置在筒型過(guò)濾網(wǎng)兩端的過(guò)濾承接口以及若干沿筒形過(guò)濾網(wǎng)軸線方向平行且均勻分布的圓形過(guò)濾網(wǎng)，圓形過(guò)濾網(wǎng)與筒型過(guò)濾網(wǎng)固定連接，所述過(guò)濾承接口的豎直界面面積均與錐形管路接頭一和錐形管路接頭二的錐形管端面的面積相等，所述錐形管路接頭一和錐形管路接頭二的相對(duì)開(kāi)口處均固設(shè)有與柱狀濾網(wǎng)兩端匹配的弧形彈性卡，以用于將柱狀濾網(wǎng)結(jié)構(gòu)卡接在錐形管路接頭一和錐形管路接頭二上，所述過(guò)濾承接口的卡接處設(shè)置有與弧形彈性卡相匹配的環(huán)形凸起，所述錐形管路接頭一的安裝環(huán)外徑大于承接環(huán)的外徑且沿安裝環(huán)外圈內(nèi)側(cè)開(kāi)設(shè)有若干滑槽，以用于與套管滑動(dòng)連接。
進(jìn)一步地，所述套管靠近錐形管路接頭一的一端管壁端面上固設(shè)有密封環(huán)，密封環(huán)靠近承接環(huán)一側(cè)嵌入有密封圈，以用于與承接環(huán)配合防止廢水外泄，套管內(nèi)壁上對(duì)應(yīng)若干滑槽的位置固設(shè)有與滑槽匹配且數(shù)量對(duì)應(yīng)的滑軌，所述滑軌均平行于套管軸線方向，所述套管遠(yuǎn)離密封環(huán)的一端設(shè)置有鎖緊機(jī)構(gòu)，所述鎖緊機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)動(dòng)連接在套管上的鎖緊桿、套舍在鎖緊桿上的壓縮彈簧、固設(shè)在鎖緊桿頭的限位凸起以及開(kāi)設(shè)在排放管壁上與限位凸起匹配的限位凹槽。
進(jìn)一步地，所述滑軌靠近鎖緊機(jī)構(gòu)一端設(shè)置有限位環(huán)，以用于限定套管在安裝環(huán)上滑動(dòng)的位置，所述套管上對(duì)應(yīng)鎖緊桿的位置設(shè)置開(kāi)設(shè)有凸起容納槽，所述壓縮彈簧一端緊抵凸起容納槽頂壁。
進(jìn)一步地，所述沉淀池一側(cè)設(shè)置有中轉(zhuǎn)池，以用于將破氰處理后的廢水暫存在中轉(zhuǎn)池中，所述中轉(zhuǎn)池與沉淀池通過(guò)S型管路連通。
進(jìn)一步地，所述中轉(zhuǎn)池側(cè)壁上固設(shè)有電極固定架，電機(jī)固定架上固設(shè)有若干鐵金屬電極板，若干所述鐵金屬電極板沿豎直方向平均分布且相互平行，鐵金屬電極板通過(guò)導(dǎo)線與外部電源電連接。
進(jìn)一步地，所述生產(chǎn)電子產(chǎn)品廢水處理系統(tǒng)處理廢水的步驟如下：
步驟S1，將廢水通過(guò)過(guò)濾網(wǎng)，過(guò)濾去除廢水中的沉淀物；
步驟S2，將步驟S1中過(guò)濾后的廢水排入除鉻反應(yīng)罐中，通過(guò)加藥裝置加入鐵鹽，罐體內(nèi)溫度在65℃～75℃，并與空氣充分?jǐn)嚢�，靜止浴溫30min，得到上清液；
步驟S3，將步驟S2中得到的上清液排入破氰反應(yīng)罐中，通過(guò)臭氧發(fā)生裝置生成的臭氧在破氰反應(yīng)罐中進(jìn)行曝氣處理，得到預(yù)處理的廢水；
步驟S4，將步驟S3中得到的廢水在中轉(zhuǎn)池中流經(jīng)鐵金屬電極板，外部電源打開(kāi)，鐵金屬電極板通電，對(duì)中轉(zhuǎn)池中的廢水進(jìn)行電絮凝處理；
步驟S5，將步驟S4中電絮凝處理后的廢水排入沉淀池中，調(diào)節(jié)PH值至6.2～6.7，加入硫化鈉，靜置1.5h；
步驟S6，將步驟S5中沉淀池內(nèi)沉淀處理后的廢水排入常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對(duì)廢水進(jìn)行后續(xù)的常規(guī)污染物達(dá)標(biāo)處理。
更進(jìn)一步地，所述除鉻反應(yīng)罐底部連通有鉻金屬回收裝置，以用于對(duì)去除的含鉻沉淀物進(jìn)行回收。
進(jìn)一步地，所述的沉淀池底部通過(guò)管路連通有沉淀回收裝置，以用于對(duì)沉淀池中的沉淀物進(jìn)行集中收集和處置。
（發(fā)明人：馬賞;王亞龍;劉暢;許煜瀟）
